海关编码 | 商品名称 | 商品描述 | 操作 |
8486202100 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) | 详情定位 |
8486202200 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) | 详情定位 |
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