海关编码 | 商品名称 | 商品描述 | 操作 |
8486201000 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备(制造半导体器件或集成电路用的) | 详情定位 |
8486202100 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) | 详情定位 |
8486202200 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) | 详情定位 |
8486202900 | 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 | 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 | 详情定位 |
8486203100 | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机(步进光刻机) | 详情定位 |
8486203900 | 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造半导体器件或集成电路用的) | 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造半导体器件或集成电路用的) | 详情定位 |
8486204100 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | 详情定位 |
8486204900 | 其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 | 其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 | 详情定位 |
8486205000 | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机 | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机 | 详情定位 |
8486209000 | 其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 | 其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 | 详情定位 |
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